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疑問？光學玻璃基旋渦波片主要清洗的目標是什么：
光學玻璃基渦旋波片在制造和封裝過程中可能殘留以下污染物，超聲波清洗可高效去除：
1、拋光殘留物（如氧化鈰、二氧化硅顆粒）。
2、有機污染物（指紋、油脂、灰塵）。
3、金屬離子或無機鹽（來自加工環(huán)境或化學處理）。
4、臨時保護膜或光刻膠殘留（如用于微結(jié)構(gòu)制作的抗蝕劑）。
威固特VGT-1409FH超聲波清洗機所具備的清洗優(yōu)勢等技術(shù)功能如下：
相比傳統(tǒng)清洗方法（如手動擦拭、噴淋清洗），威固特VGT-1409FH超聲波清洗機在光學玻璃基渦旋波片生產(chǎn)中具有以下優(yōu)勢：
優(yōu)勢 | 說明 |
高效去污 | 超聲波空化效應(yīng)可深入微米級結(jié)構(gòu)，清除頑固顆粒和有機殘留。 |
均勻清洗 | 避免人工擦拭造成的局部劃傷或污染不均勻問題。 |
批量處理 | 可同時清洗多片波片，提高生產(chǎn)效率。 |
減少化學溶劑用量 | 超聲波增強清洗液活性，降低對強酸/堿溶劑的依賴。 |
可控性強 | 通過調(diào)整頻率、功率時間優(yōu)化清洗效果，適配不同污染性。 |
威固特VGT-1409FH超聲波清洗機推薦技術(shù)參數(shù)（為確保清洗效果并避免損傷）：
參數(shù) | 推薦范圍 | 注意事項 |
頻率 | 25-40KHZ | 低頻（25KHZ）適合去大顆粒，高頻（40KHZ）適合精細清洗，但需避免過高頻率導致微結(jié)構(gòu)共振。 |
功率密度 | 30-50W/L | 功率過高可能損傷鍍膜或?qū)е虏ＡП砻嫖⒘鸭y。 |
清洗時間 | 1-3分鐘 | 過長時間可能引發(fā)材料疲勞（尤其對鍍膜波片）。 |
清洗液 | 去離子水 + 中性表面活性劑（如5%異丙醇） | 避免強酸/堿溶液腐蝕鍍膜或玻璃。 |
溫度 | 20-40℃ | 適當升溫可提升清洗效率，但超過50℃可能影響某些光學膠或鍍層穩(wěn)定性。 |
威固特VGT-1409FH超聲波清洗機分步清洗流程：
步驟1：預清洗（可選）
目的：去除大顆粒松散污染物，減少超聲波負載。
方法：
用氮氣槍吹掃波片表面。
浸泡于去離子水中，手動搖晃10秒。
步驟2：超聲波主清洗
參數(shù)：
清洗液：按污染類型選擇。
功率：8W/L（如10L槽體=80W）。
時間：2分鐘。
操作：
將波片裝入支架，完全浸沒于清洗液（液面高出波片≥2cm）。
啟動超聲波，觀察清洗液流動是否均勻（避免死角）。
步驟3：漂洗
目的：去除清洗液殘留。
方法：
一級漂洗：超純水（電阻率≥18.2 MΩ·cm）中浸泡1分鐘，輕微搖晃。
二級漂洗：流動超純水沖洗30秒（流速1L/min）。
步驟4：干燥
氮氣吹干：
使用0.1μm過濾的氮氣，壓力≤0.2MPa。
從波片中心向外螺旋式吹掃，角度45°（避免液滴殘留）。
